EM-KLEEN in-situ remote plasma cleaner - complete

EM-KLEEN In-situ-Remote-Plasmareiniger

PIEM100

Der EM-KLEEN In-situ-Remote-Plasmareiniger kann zur In-situ-Reinigung von Proben und Vakuumkammern von Elektronenmikroskopen und anderen Arten von Analyseinstrumenten wie SEM, FIB, TEM, XPS und SIMS verwendet werden. Es kann Kohlenwasserstoff- und Fluorkohlenstoffverunreinigungen innerhalb der Vakuumkammer und organische Verunreinigungen auf der Oberfläche von Proben z.B. vor der Analyse effektiv entfernen.

Produktdetails

Beschreibung

Spezifikationen

Tischcontroller mit integriertem Mikrocomputer und LCD-Touchscreen-Benutzeroberfläche
Remote-Plasmaquelle (hochwertiges Quarzrohr) mit KF/NW40-Vakuumflange
PC-Software mit intuitiver Benutzeroberfläche
60 Rezepte speicherbar im Mikrocontroller
75-Watt-HF-Netzteil, keine Impedanzanpassung erforderlich
Plasmasensor für Plasmamonitor
Elektronische Gasflussregler mit Druckregelung
Smart-Schedule-Funktion für automatische Reinigung
Intelligent-sicherer und Experten-Betriebsmodus
3m hochwertiges Hochleistungs-HF-Kabel; D-Sub 9 PC-Steuerkabel; D-Sub 15-Quellensteuerkabel

Anwendungsbeispiele

EM-KLEEN ist eine vollautomatische Plasmaquelle. Das System besteht aus einem LCD-Touchscreen-Controller mit Mikrocomputer und einer Remote-Plasmaquelle. Das Design ist intuitiv und vielseitig. Trotz ihrer geringen Größe hat die EM-KLEEN Remote-Plasmaquelle einen Pirani-Drucksensor, einen elektronischen Gasdurchflussregler, einen Plasmaintensitätssensor, einen Temperatursensor und einen Kühlventilator integriert. Der Durchflussregler passt die Gasdurchflussrate automatisch an, um den rezeptspezifischen Druck in der Plasmareinigerkammer aufrechtzuerhalten.

Der Controller kann bis zu 60 Rezepte mit unterschiedlicher HF-Leistung, Plasmaröhrendruck, Gasflussrate und Reinigungsdauer speichern. Es ist keine manuelle Anpassung für verschiedene Rezepte erforderlich. Der Miniatur-Drucksensor überwacht ständig den Probenkammerdruck. Es kann im sicheren Betriebsmodus als Safety Interlock und zum Zählen von Probenladeereignissen für die SmartSchedule™-Funktion verwendet werden. Der integrierte Kühler ermöglicht eine leistungsstarke Hochgeschwindigkeitsreinigung, ohne dass die Quelle überhitzt. Der Temperatursensor bietet Schutz gegen Überhitzung der Quelle bei längerer Reinigung mit hoher Leistung. Der Plasmasensor misst die Plasmastärke in Echtzeit, Benutzer können somit den Plasmastatus überwachen.

Durch die Kombination von Drucksensor, automatischem Gasdurchflussregler, Plasmasensor, Temperatursensor und LCD-Touchscreen-Controller mit integriertem Mikroprozessor kann der EM-KLEEN In-situ-Plasmareiniger Ihr System automatisch pflegen und bietet Schutz vor potenziellen Anwendungsfehlern. Die von PIE Scientific entwickelte SmartClean™-Technologie kombiniert das in der Nuklearforschung und in der Halbleiterindustrie entwickelte hochmoderne Plasmaquellen-Design. EM-KLEEN Plasmareiniger sind weitaus fortschrittlicher als frühere Generationen von Remote-Plasmareinigern und bieten viele einzigartige Funktionen.

Der Standard-Vakuumanschluss ist ein NW/KF40-Flansch. Adapter für verschiedene REM-Anschlüsse sind erhältlich. Eine CF2.75″-Flanschoption ist ebenfalls erhältlich.