Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, verschiedene Lagen

Graphenoxidfilm mit unterschiedlicher Anzahl von Lagen auf einer thermisch gewachsenen Siliciumoxid-Schicht eines Siliciumwafer. Das Substrat ist mit Graphenoxidfilm von 1 und 2 Lagen erhältlich. Ideal geeignet für AFM Anwendungen und als ultraflache experimentelle Plattform.

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Artikelname	Menge
Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, 1 Lager, 5 Stück E1GOUFSiO2-5 348,90 € 415,19 €
Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, 2 Lagen, 10 Stück E2GOUFSiO2-10 630,50 € 750,30 €
Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, 1 Lagen, 10 Stück E1GOUFSiO2-10 653,30 € 777,43 €
Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, 2 Lagen, 25 Stück E2GOUFSiO2-25 1.372,20 € 1.632,92 €
Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, 1 Lagen, 25 Stück E1GOUFSiO2-25 1.428,00 € 1.699,32 €
Graphenoxid auf ultraflachem thermischen Siliciumoxid Substrat, 2 Lagen, 5 Stück E2GOUFSiO2-5 333,10 € 396,39 €

Produktdetails

Beschreibung

Dünne Monolagen von Graphenoxid werden durch Oxidation von Graphen mittels eines geschützten Prozesses erzeugt.

Eigenschaften

Graphenoxid ist in 2 Stärken verfügbar: 1 oder 2 Lagen
Substrat ist eine 200nm dünne thermisch gewachsene Siliciumoxid Schicht auf einem ultra-flachen 5x5mm großen Siliciumwafer-Stück mit einer Dicke von 675µm
Graphenoxidabdeckung ca. 70%
Graphenoxidfilm ist hydrophil und somit besser für Life Science Anwendungen geeignet als Graphenfilme

Spezifikationen