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TEM Grids, Graphen auf Siliciumnitrid mit 2.5µm Löchern, verschiedene Lagen, Si
Graphenfilm mit unterschiedlicher Anzahl von Lagen, unterstützt von einem Siliciumnitrid-Film auf einem hexagonalen 3mm großen Silicium Substrat mit 0.5x0.5mm großen Apertur. Die TEM Grids sind mit Graphenfilm von 1, 2, 3-5 bis 6-8 Lagen erhältlich. Ideal geeignet für Nanopartikelanalysen.
Produktdetails
Beschreibung
Dünne Monolagen von Graphen werden durch den Prozess der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) erzeugt.
Eigenschaften
- Graphen in 4 Stärken verfügbar: 1, 2, 3-5 oder 6-8 Lagen
- Substrat ist ein 200nm dünner Siliciumnitrid-Film mit ca. 6400 2.5µm großen Löchern auf einem 200µm dicken hexagonalen 3.0mm Silicium Substrat mit einer 0.5x0.5mm großen Apertur
- Graphenabdeckung des TEM Grids größer als 75%
Erscheinungsbild
Der Graphenfilm ist je nach Anzahl der Lagen nahezu durchsichtig bis hellgrau und liegt auf der Oberfläche der Siliciumnitrid-Membran. Das hexagonale Silicium Substrat erscheint in grünlicher Farbe.
Spezifikationen
| Typ | Graphen Dicke |
Transparenz | TEM Grid | Trägerfilm |
| 1 Lagen | ~ 0,35nm | ~96,4% | Silicium, AP 0.5x0.5mm | Siliciumnitrid 2.5µm Löcher |
| 2 Lagen | ~ 0,7nm | ~92,7% | Silicium, AP 0.5x0.5mm | Siliciumnitrid 2.5µm Löcher |
| 3-5 Lagen | 1,0 - 1,7nm | ~85,8-90,4% | Silicium, AP 0.5x0.5mm | Siliciumnitrid 2.5µm Löcher |
| 6-8 Lagen | 2,1 - 2,8nm | ~78,5-83,2% | Silicium, AP 0.5x0.5mm | Siliciumnitrid 2.5µm Löcher |
CAS Nr. 7782-42-5
Weitere Informationen
| Beschichtung |
Graphen
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|---|---|
| Filmdicke | 0,35 - 2,8nm |
| Material |
Silizium Nitrid
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| Hersteller |
EMS
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